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  • XMD2000二氧化硅消光粉高速胶体磨

    二氧化硅消光粉高速胶体磨定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

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    2023-11-13

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  • XMD2000阿莫西林混悬液超高速胶体磨

    阿莫西林混悬液超高速胶体磨定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

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    2023-11-13

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  • XMD2000益生菌混悬液高剪切胶体磨

    益生菌混悬液高剪切胶体磨具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

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    2023-11-13

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  • XMD2000多潘立酬混悬液纳米胶体磨

    多潘立酬混悬液纳米胶体磨具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

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    2023-11-13

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  • XMD2000酶改性大豆磷脂超高速胶体磨

    酶改性大豆磷脂超高速胶体磨具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

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    2023-11-13

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  • XMD2000枫香脂芸香浸膏胶体磨

    枫香脂芸香浸膏胶体磨由于转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能,使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用,形成悬浮液(固/液),乳液(液体/液体)和泡沫(气体/液体)。

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    2023-11-13

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  • XMD2000纳米核酸导向药物均质胶体磨

    纳米核酸导向药物均质胶体磨转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化分散的效果。

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    2023-11-13

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  • XMD2000负载型催化剂纳米胶体磨

    负载型催化剂纳米胶体磨转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化分散的效果。

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    2023-11-13

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