克霉zuo高剪切胶体磨

克霉zuo高剪切胶体磨

克霉zuo胶体磨它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能，具有you越的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后，粒度达2～50微米，均质度达90%以上，是超微粒加工的理想设备。

包含克霉zuo的药物组合物所述药物组合物包含甲硝zuo、克霉zuo、醋suan氯己定、羧甲基淀粉钠、羧甲基纤维素钠、甘油、和水，该方法包括以下步骤：

(1)、将甲硝zuo和克霉zuo用粉碎机粉碎，过100目筛，细粉装入洁净塑料袋内，扎紧后，放入不锈钢桶中，待用；

(2)、将处方总重量计60％的纯化水加热至40℃?50℃，将醋suan氯己定加入上述纯化水中，充分搅拌，使其wan全溶解，成澄清溶液，并保持溶液温度为40℃?50℃；

(3)、将步骤(1)中的甲硝zuo、克霉zuo和羧甲基纤维素钠置混合机中混合，得到均匀的混合粉；

(4)、将甘油缓缓加入步骤(2)的溶液中，边加入边搅拌，混合均匀，得澄清溶液；

(5)、将羧甲基淀粉钠缓慢播撒入少量步骤(4)的溶液中研磨浸润，再分批缓缓加入步骤(4)的溶液中，边加入边搅拌，使其成均匀浆液；

(6)、将步骤(3)的混合粉缓缓加入到步骤(5)中的粘稠膏状基质中，边加入边搅拌，全部加完后，采取间歇式搅拌直至罐内物料成为粘稠状膏体，再经胶体磨研磨后，补加纯化水至全量，缓慢降温至20℃?25℃，密封静置16?72小时，得本发明的药物组合物；和任选地

(7)、将步骤(6)所得本发明药物组合物分装到包装器具中。

胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

GM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。GM2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

克霉zuo高剪切胶体磨GMSD2000设备参数表：