硼氢hua钠立式胶体磨

硼氢hua钠立式胶体磨

硼氢hua钠常温常压下稳定。硼氢hua钠碱性溶液呈棕黄色。常用的还原剂之一。对空气中的水气和氧较稳定，操作处理容易。适用于工业规模， 因为溶解性的问题，通常使用甲醇、乙醇作为溶剂。通常情况下，硼氢hua钠无法还原酯，酰胺，羧酸及腈类化合物，但当酯的羰基α位有杂原子存在时例外，可以将酯还原。与硼氢hua钠接触后有咽喉痛、咳嗽、呼吸急促、头痛、腹痛、腹泻、眩晕、眼结膜充血、疼痛等症状。吸入或者皮肤接触该试剂对人体有害。应干燥保存，使用时应特别小心，操作时在通风橱中进行。应贮存在阴凉、干燥的库房中。防潮，防震，勿与无机酸共贮混运，远离热源和火种及易燃物品。

硼氢hua钠可以在非常温和的条件下实现醛酮羰基的还原，生成一级醇、二级醇。还原步骤是先把底物溶于溶剂，一般是甲醇或者乙醇，然后用冰浴冷却，将粉末加入混合物搅拌至反应wan全即可。它是一种中等强度的还原剂，所以在反应中表现出良好的化学选择性，只还原活泼的醛酮羰基，而不与酯、酰胺作用，一般也不与碳碳双键、叁键发生反应。少量硼氢hua钠可以将腈还原成醛，过量则还原成胺

GM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。GM2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求

胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

研磨头表面涂料一层及其坚硬的硬质材料，从而使其表面具有非常粗糙的纹理，这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成，并且具有不同的粒径，研磨头处形成了一个具有较强的剪切区域，可以输送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后粒径大小都比胶体磨GM2000的效果更加理想。

硼氢hua钠立式胶体磨设备参数表：