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纳米高速胶体磨

纳米高速胶体磨是实现物料纳米级细化的专用设备,通过超高转速转子与定子配合,产生强剪切、研磨及空化效应。它能将固液或液液物料细化至纳米尺度,打破团聚,适配医药、新能源、高duan涂料等领域。设备符合精密生产标准,可连续作业,提升物料活性与均匀度,保障下游产品性能稳定。

  • 产品型号:GMD2000
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-10-22
  • 访  问  量:23
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详细介绍

纳米高速胶体磨

纳米胶体磨 超高胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

纳米高速胶体磨


根据一些行业的特殊要求, SID 在GM2000系列胶体磨的基础上又开发了一款GMS2000超高速胶体磨,转子的线速度可以达到40M/S。研磨分散效果更好,研磨粒径分布更小。

  

超高速胶体磨的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 

  

GM2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。



三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,zui小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

纳米高速胶体磨


纳米高速胶体磨设备参数表:


研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。


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