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混悬剂胶体磨是用于混悬剂制备的专用细化设备,核心通过高速旋转的定转子产生剪切、研磨力,将不溶性固体颗粒粉碎并均匀分散于液体中。它能将颗粒处理至微米级,减少沉降,提升混悬剂稳定性,适配高粘度物料。广泛用于医药、农药领域,如制备口服混悬液、农药悬浮剂,保障产品均一性与药效。
产品型号:GMD2000
厂商性质:生产厂家
更新时间:2025-10-24
访 问 量:18
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混悬剂胶体磨
该悬浮液工艺要点在于使用的胶体磨的研磨性能,普通胶体磨转速3000rpm,研磨出来的悬浮液颗粒较粗,静置一段时间容易产生絮凝,影响药效和使用,极大限制了新型阿莫西林混悬剂的推广,上海依肯高剪切胶体磨GM2000系列转速高达9000rpm,是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。GM2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。 经过GM2000胶体磨研磨后的混悬液固体颗粒粒径80%小于10UM,分布范围极窄。

SID胶体磨与国内胶体磨的性能比较:
一、转速和剪切速率:
SID胶体磨,可选择德国机械密封,转速可以达到15000转
F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
普通胶体磨,可选择机械密封一般3000转,大约在14293-215440 S-1
通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的重要因素,相当于前者是后者的2-3倍
二、胶体磨头和间距:
SID胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,GM胶体模块,GM胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块。
间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工
普通胶体磨,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差
三、机械密封:
SID胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至zui低,可24小时不停运转
普通胶体磨,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁
四、清洗:
SID胶体磨,立式,皮带驱动,易于维护,可有效保护马达及齿轮箱,防止损坏,符合流体流动原理,具有CIP/SIP在线清洗,在线杀菌功能,无需拆卸,机器设计无si角,立式结构符合流体原理,清洗更简便
普通胶体磨,卧式或立式(马达一体式),轴承部分受力较大,易于损坏,维护保养复杂,
通常情况,需要拆卸机器进行清洗
GM2000系列医药的特点:
①定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
②齿列的深度:从开始的2.7mm 到末端的0.7mm,范围比较大,范围越大,处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。

高剪切胶体磨主要用途:高剪切胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎,能起到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合,主要技术指标已达到国外同类产品的ding尖。
混悬剂胶体磨设备参数表:
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。 | |||||
