热门搜索: GRS2000石蜡硅油乳化机 GMD2000硅橡胶改性分散机 GM2000镍氢电池浆料分散机 GMD2000小试研磨分散机 GRS2000研究院纳米小型乳化机 GRS2000小型管线式均质机 GRS2000纳米级材料德国牌均质机 GRS2000芳纶浆料分散机 GRS2000芳纶纤维锂电池浆料分散机 GMD2000中试型研磨分散机 GM2000实验室研磨机 GMD2000树脂乳化纳米级研磨设备 GRS2000德国纳米亮光剂乳化机 GRS2000医药分散机 GRS2000纳米小型乳化机 GMD2000纳米实验室胶体磨

产品展示/ Product display

您的位置:首页  /  产品展示  /  研磨机  /  分散研磨机  /  GM2000实验室研磨机
  • 2024新澳原料资料免费大全

  • 2024新澳原料资料免费大全

  • 2024新澳原料资料免费大全

  • 2024新澳原料资料免费大全

  • 2024新澳原料资料免费大全

实验室研磨机

实验室研磨机是科研专用小型研磨设备,采用球磨、行星式或剪切研磨技术,可将固体物料细化至微米甚至纳米级别。具有体积小巧、操作简便、研磨精度高、样品损耗小等特点,适配矿石、粉末、生物样本等多种物料,广泛应用于材料、化工、医药等领域的实验研发,为后续分析或制备提供均匀物料。

  • 产品型号:GM2000
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-11-06
  • 访  问  量:9
立即咨询

联系电话:13338684951

详细介绍

实验室研磨机


此款比普通的研磨机的速度达到4-5倍以上,研磨效果非常好,转速可以达到21000RPM。

是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生 向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

实验室研磨机

GM2000是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 GM2000实验室中试型胶体磨的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。 GM2000的定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

SID公司另外一项独特的创新,就是锥体磨GMO2000系列,它的设计使其功能在原有的GM2000的基础上又进了一步。由于这项创新,GMO2000能够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比胶体磨GM2000还小。研磨间隙可以无级调节,从而可以得到精确的研磨参数。

研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料,从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成,并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域,可以输送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和zui后的粒径大小都比胶体磨GM的效果更加理但它的分散效果和zui后的粒径大小都比胶体磨GM的效果更加理想。

实验室研磨机

实验室研磨机设备选型表:

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。



留言询价

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
微信扫一扫

邮箱:[email protected]

传真:

地址:太仓市沙溪镇涂松村岳鹿路

Copyright © 2025 2024新澳原料资料免费大全版权所有   备案号:苏ICP备18007963号-2   技术支持:制药网