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陶瓷胶体磨

陶瓷胶体磨,由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力加压产生向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

  • 产品型号:GMSD2000
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-10-14
  • 访  问  量:19
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详细介绍

陶瓷胶体磨


    SID机械设备有限公司另外一项独特的创新,就是GMC2000系列,它的设计使其功能在原有的GMC2000系列胶体磨的基础上又进了一步。由于这项GMC2000系列能够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比胶体磨GM2000还小。高速研磨间隙可以无级调节,从而可以得到精确的研磨参数。 


  • 工作原理:通过电动机带动转齿与相配的定齿作相对高速旋转,物料在自身重量或外部压力作用下,产生向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的可调间隙时,受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,从而实现物料的乳化、分散和粉碎。

  • 特点:具有高吞吐量、可定制不同研磨刀头实现多种剪切速率、定子 / 转子间隙可无限调整等优势,能处理粘度高达 50,000mPas 的物料,操作压力最高可达 16bar,且易于扩大规模生产。

  • 应用领域:广泛应用于制药、食品、化工等行业,如电池浆料、电子浆料、油漆、颜料、涂料等物料的加工处理。

  • 陶瓷胶体磨

       

  是由二组陶瓷转子,二组陶瓷定子组成,在泵腔内部转子高速旋转,使陶瓷转子甩出,紧贴陶瓷定子,产生强劲的动能能快速地将粉体分散到液体中,高效、快速、均匀地将一个相或多个相分布到另一个连续的相中,通常物料中的各个相是互不相溶的。使物料在定转子之间微小的空隙中受到剪切、离心挤压、撞击、研磨、高频振荡等综合作用,使物料经过研磨后细度大大提高,再通过适量的添加剂共同作用,使产品快速、均匀、分散、乳化,研磨,避免了原金属胶体磨磨损后效果差缺点,效能比原来有胶体磨提高3倍以上,特别是对金属污染要求特别高的企业,如电子和电池行业,可以达到更高品质产品。


陶瓷胶体磨设备型号参数表:

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。


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